• 【發(fā)布單位】作者：陳菲 馮磊磊
• 【發(fā)布文號】--
• 【發(fā)布日期】2008-08-26 11:13:15
• 【生效日期】--
• 【失效日期】--
• 【文件來源】來源：新華社
• 【所屬類別】立法追蹤

-我國擬修改專利法提高專利授權“門檻”-

25日首次提請全國人大常委會審議的專利法修正案草案摒棄了現(xiàn)行專利法關于專利授權條件“相對新穎性標準”,，而采用了“絕對新穎性標準”,。這意味著我國的專利授權“門檻”將進一步提高。



 根據(jù)現(xiàn)行專利法的規(guī)定,，我國專利授權條件采用的是“相對新穎性標準”,，即規(guī)定申請發(fā)明、實用新型專利權的發(fā)明創(chuàng)造沒有在國內外公開發(fā)表過,，也沒有在國內公開使用過或者以其他方式為公眾所知,；申請外觀設計專利權的設計沒有在國內外公開發(fā)表過，也沒有在國內公開使用過,。



 根據(jù)該規(guī)定,，一些沒有公開發(fā)表過的技術，雖然在國外已經被公開使用或者已經有相應的產品出售,，只要在我國國內還沒有人公開使用或者沒有相應的產品出售,，就可以在我國授予專利，從而導致我國專利質量不高,。這既不利于激勵自主創(chuàng)新,，也妨礙了國外已有技術在我國的應用。



 為此,，專利法修正案草案采用了“絕對新穎性標準”：規(guī)定授予專利權的發(fā)明創(chuàng)造在國內外都沒有為公眾所知,。此外，為進一步提高外觀設計專利的質量,，草案還規(guī)定：對平面印刷品的主要起標識作用的設計不授予專利權,。